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J-GLOBAL ID:200903010416507679

X線発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999190941
Publication number (International publication number):2001023795
Application date: Jul. 05, 1999
Publication date: Jan. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】飛散粒子の発生をほとんど無くし、高頻度で繰り返してレーザープラズマ軟X線やX線レーザーを発生させることができるようにする。【解決手段】真空容器内に配置されたターゲットにエネルギービームを照射するX線発生装置において、気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状態にあるターゲット材料42がケース内に封入されてなる封入ターゲット40を用いた。このようなターゲット材料を用いることにより、飛散粒子の発生がほとんど無い。そして封入ターゲットとすることでレーザー集光部への連続的な供給が可能となる。
Claim (excerpt):
真空容器と、該真空容器内に配置されたターゲットと、該ターゲットにエネルギービームを照射するビーム照射手段と、よりなるX線発生装置において、該ターゲットは気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状態にあるターゲット材料がケース内に封入されてなる封入ターゲットとして配置されていることを特徴とするX線発生装置。
IPC (4):
H05G 2/00 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H05H 1/24
FI (4):
H05G 1/00 K ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H05H 1/24
F-Term (4):
4C092AA06 ,  4C092AB11 ,  4C092AB19 ,  4C092BD01

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