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J-GLOBAL ID:200903010416507679
X線発生装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999190941
Publication number (International publication number):2001023795
Application date: Jul. 05, 1999
Publication date: Jan. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】飛散粒子の発生をほとんど無くし、高頻度で繰り返してレーザープラズマ軟X線やX線レーザーを発生させることができるようにする。【解決手段】真空容器内に配置されたターゲットにエネルギービームを照射するX線発生装置において、気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状態にあるターゲット材料42がケース内に封入されてなる封入ターゲット40を用いた。このようなターゲット材料を用いることにより、飛散粒子の発生がほとんど無い。そして封入ターゲットとすることでレーザー集光部への連続的な供給が可能となる。
Claim (excerpt):
真空容器と、該真空容器内に配置されたターゲットと、該ターゲットにエネルギービームを照射するビーム照射手段と、よりなるX線発生装置において、該ターゲットは気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状態にあるターゲット材料がケース内に封入されてなる封入ターゲットとして配置されていることを特徴とするX線発生装置。
IPC (4):
H05G 2/00
, G21K 5/02
, G21K 5/08
, H05H 1/24
FI (4):
H05G 1/00 K
, G21K 5/02 X
, G21K 5/08 X
, H05H 1/24
F-Term (4):
4C092AA06
, 4C092AB11
, 4C092AB19
, 4C092BD01
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