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J-GLOBAL ID：200903010430097815

プラズマ気相蒸着法

Inventor： 矢崎 逸夫 ,  松本 博昭
Applicant, Patent owner： 東芝タンガロイ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991190536
Publication number (International publication number)：1994041756
Application date： Jul. 04, 1991
Publication date： Feb. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 基材の表面に被膜を形成する前処理工程としてのクリーニング工程を最適ガス雰囲気中で処理するプラズマ気相蒸着法を提供する。【構成】 0.1〜10体積%の水素ガスと、残りが窒素及び/又は不活性ガスでなる混合ガス雰囲気中で加熱するクリーニング工程で、基材表面を処理した後、被膜を形成させるプラズマ気相蒸着法。【効果】 従来の気相蒸着法に比べて、約33%〜12.5倍も被膜の臨界剥離荷重を高めることができる。

Claim (excerpt)：

ガス雰囲気中で基材の表面に被膜を形成させる気相蒸着法において、該基材を0.1〜10体積%の水素ガスと、残りが窒素及び/又は不活性ガスでなる混合ガス雰囲気中で加熱するクリーニング工程を施した後、該基材の表面に被膜を形成させることを特徴とするプラズマ気相蒸着法。

IPC (6)：

C23C 16/50 ,  C23C 14/32 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/203

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭57-079169
  
• 特開昭58-083764
  
• 特開昭56-121632
  
• 特開昭63-079955