2次元ならびに3次元CTシステム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：清水守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999324847
Publication number (International publication number)：2000215304
Application date： Nov. 16, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】再構成画像の質を保持しつつ、安価にして高速処理が可能な2次元並びに3次元CTシステムを提供する。【解決手段】観測対象物体Sに対してX線のような透過性の平行ビームを適切な方向から透過することにより、各層毎にどの画素でも画素領域におけるビームの透過状態が均一になるようにして投影データを検出する投影データ取得手段1と、全領域を小さな部分空間に分け、部分空間を透過する各ビームに対して各係数値を予め準備しておき各ビーム投影値と各係数値との積和計算を行うことによって中心画素の画素値を算出し、同様にして広い領域の画素値を積和計算だけで繰り返し算出する部分再構成計算手段2と、標本化モデルと特異値分解による手段10又は部分再構成影響関数による手段11を用いて、部分空間を透過する各ビームに対する再構成係数値を算出するという部分再構成係数作成手段3と、表示手段14とを設けた。

Claim (excerpt)：

観測対象物体を少数方向から透過した投影データを用いて計算により物体内部を再構成して表示する2次元ならびに3次元CTシステムにおいて、観測対象物体に対してX線のような電磁波や粒子線、超音波等の透過性の平行状ビームを透過する際に、前記観測対象物体の各層毎にどの画素位置にあっても、その画素を中心とする部分空間においてその部分空間を透過している各ビームの透過状態が均一になるように常に適切な方向から透過して投影データを検出する投影データ取得手段と、各層毎に各画素位置において、その画素を中心とする部分空間を透過している各ビームに対して予め各係数値を算出しておき、計測された各ビームの投影値と各係数値との積和計算を行うことによってその画素における画素値を計算して、同様にして広い領域で各画素における画素値を積和計算だけで繰り返し計算する部分再構成計算手段と、前記部分再構成計算手段で用いる各係数値を予め算出しておくために、観測対象物体に標本化モデルを設定して各ビームに対して線形方程式を立て、各層毎に各画素においてその画素を中心とする部分空間を透過している各方向からの各ビームに対してその連立線形方程式を作りその行列を特異値分解することにより、その部分空間を透過している各ビームがその中心画素にどの程度影響を与えるかを示す係数値を算出する部分再構成係数作成手段と、前記部分再構成計算手段で計算された2次元または3次元画像を画像表示する表示手段とを備えたことを特徴とする2次元ならびに3次元CTシステム。

IPC (3)：

G06T 1/00 , A61B 8/00 , G01N 23/04

FI (3)：

G06F 15/62 390 B , A61B 8/00 , G01N 23/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

CT装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-317686 Applicant：岩手県, 田山典男

Return to Previous Page