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J-GLOBAL ID：200903010459514750

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  丹 史郎 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992104542
Publication number (International publication number)：1993297583
Application date： Apr. 23, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 特に半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、耐熱性に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表される化合物を含有する。【化1】

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物及び下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027