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J-GLOBAL ID：200903010462080361
ポジ型レジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991316499
Publication number (International publication number)：1993034918
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：
【要約】【目的】 高度の耐熱性、解像度及び感度等の諸性能を維持したまま、塗布性、プロファイル及び焦点深度等の性能にも優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 乳酸エチル並びに、(a)酢酸n-アミル、(b)2-ヘプタノン及び(c)酢酸n-アミル/2-ヘプタノン混合溶媒の中のいずれか1種を含み、且つに乳酸エチルと、(a)乃至(c)の溶媒の中のいずれか1種との重量比が5:95乃至80:20の範囲である溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。
Claim (excerpt)：
乳酸エチル並びに、(a)酢酸n-アミル、(b)2-ヘプタノン及び(c)酢酸n-アミル/2-ヘプタノン混合溶媒の中のいずれか一種を含み、且つ乳酸エチルと、(a)乃至(c)の溶媒の中のいずれか一種との重量比が5:95乃至80:20の範囲である溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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