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J-GLOBAL ID:200903010469617131

光磁気記録媒体とその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石井 陽一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994087858
Publication number (International publication number):1995272334
Application date: Mar. 31, 1994
Publication date: Oct. 20, 1995
Summary:
【要約】【目的】 成膜後の高温熱処理を必要とせずに、短波長域で大きなθk、かつ大きな垂直磁気異方性を有するNiAs型構造のMnSbPt薄膜を記録層として備える光磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的とする。【構成】 本発明の光磁気記録媒体は、基板上に、層厚20A以下のMnSb層と、層厚40A以下のPt層および/またはPtSb層とを交互に積層して形成された全厚50〜2000Aの人工格子膜、または厚さ50〜2000AのMnSbPt薄膜を記録層とし、該記録層が、NiAs型結晶構造を有し、かつ(002)面が基板面に平行に優先配向し、加えて基板面に垂直な磁化容易軸を有することを特徴とするものである。
Claim (excerpt):
基板上に、層厚1〜40AのMnSb層と、層厚0.5〜8AのPt層および/またはPtSb層とを交互に積層して形成された全厚50〜2000Aの人工格子膜を記録層とし、該記録層が、NiAs型結晶構造を有し、かつ(002)面が基板面に平行に優先配向し、加えて基板面に垂直な磁化容易軸を有することを特徴とする光磁気記録媒体。
IPC (4):
G11B 11/10 506 ,  G11B 11/10 501 ,  G11B 11/10 521 ,  G11B 11/10 541
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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