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J-GLOBAL ID：200903010477235213

レジストパターンの推定方法

Inventor： 金峰 理明
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991238438
Publication number (International publication number)：1993080531
Application date： Sep. 18, 1991
Publication date： Apr. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は逆台形状のレジストパターン間の下面側離間寸法を推定できるレジストパターンの推定方法を提供することを目的とする。【構成】 基板1上に、断面形状が逆台形状のレジストパターン7を形成するとともに断面形状が同一の該レジストパターン7と逆台形状とされ所定のピッチで段階的に幅寸法を小さくした複数のモニタパターン11を形成し、前記レジストパターン7形成の露光/現像過程で基板1上に残存した最小幅のモニタパターン11に基づいて前記レジストパターン7間の下面側離間寸法を推定する。

Claim (excerpt)：

基板(1)上に、断面形状が逆台形状のレジストパターン(7)を形成するとともに断面形状が該レジストパターン(7)と同一の逆台形状とされ所定のピッチで段階的に幅寸法を小さくした複数のモニタパターン(11)を形成し、前記レジストパターン(7)形成の露光/現像過程で基板(1)上に残存した最小幅のモニタパターン(11)に基づいて前記レジストパターン(7)間の下面側離間寸法を推定することを特徴とするレジストパターンの推定方法。

IPC (4)：

G03F 7/26 501 ,  G03F 7/26 513 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/302