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J-GLOBAL ID：200903010520882015

1,2-ジオール構造を有する脂環式(メタ)アクリレート誘導体、およびその重合体

Inventor： 前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998093499
Publication number (International publication number)：1999292822
Application date： Apr. 06, 1998
Publication date： Oct. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 220nm以下の光を用いたリソグラフィー用のフォトレジスト材料において露光光に対して透明性に優れ、かつエッチング耐性、基板密着性に優れたフォトレジスト用樹脂が切望されている。【解決手段】 一般式(1)で示される1,2-ジオール構造を有する(メタ)アクリレート誘導体を含む高分子前駆体を重合して得られる重合体により解決される。【化1】(上式において、R1は水素原子、またはメチル基、Gは、3,4-ジヒドロキシトリシクロ[5.2.1.02,6]デシル誘導体、または3,4-ジヒドロキシテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデシル誘導体を表す。)

Claim (excerpt)：

一般式(1)で表される(メタ)アクリレート誘導体。【化1】(上式において、R1は水素原子またはメチル基、Gは、一般式(2)、または一般式(3)で表される1,2-ジオール構造を持つ脂環基を表す。)【化2】(上式において、R2、R3はそれぞれ水素原子またはメチル基を表す。)【化3】(上式において、R4は、水素原子またはメチル基を表す。)

IPC (4)：

C07C 69/54 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (4)：

C07C 69/54 B ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 不飽和(メタ)アクリレートの選択的エポキシ化方法、得られた新規な官能性(メタ)アクリレート、及び新規なポリマーの合成におけるその使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-190924   Applicant：エルフ・アトケム・エス・アー
• ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-280695   Applicant：日本電気株式会社