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J-GLOBAL ID：200903010521639181

荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム照射方法

Inventor： 平本 和夫 ,  秋山 浩 ,  松田 浩二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998336861
Publication number (International publication number)：2000162391
Application date： Nov. 27, 1998
Publication date： Jun. 16, 2000
Summary：

【要約】【課題】簡単な制御で、照射対象における照射線量の不均一を抑制することができる荷電粒子ビーム出射装置を提供することにある。【解決手段】加速器1から出射される荷電粒子ビームのエネルギーが低くなるほど、走査電磁石24,25による荷電粒子ビームの偏向量を大きく変化させて照射領域の間隔を広くする。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームを加速した後出射する加速器と、前記加速器から出射された荷電粒子ビームの照射位置を制御する走査電磁石を有し荷電粒子ビームを出力する照射手段と、値が時間変化する期間と時間変化しない期間とを繰り返す電流を前記走査電磁石に供給する電源とを備える荷電粒子ビーム出射装置において、前記電源は、前記照射手段から出力される荷電粒子ビームのエネルギーが低くなるほど、前記走査電磁石に供給する電流が時間変化する期間における電流変化量を大きくすることを特徴とする荷電粒子ビーム出射装置。

IPC (5)：

G21K 1/093 ,  A61N 5/10 ,  G21K 1/10 ,  G21K 5/04 ,  H05H 13/04

FI (6)：

G21K 1/093 S ,  A61N 5/10 F ,  A61N 5/10 H ,  G21K 1/10 A ,  G21K 5/04 C ,  H05H 13/04 N

F-Term (20)：

2G085AA13 ,  2G085BA12 ,  2G085BA13 ,  2G085CA05 ,  2G085CA06 ,  2G085CA15 ,  2G085CA20 ,  2G085CA21 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AC06 ,  4C082AE01 ,  4C082AE03 ,  4C082AG09 ,  4C082AG12 ,  4C082AG52 ,  4C082AP01 ,  4C082AP02 ,  4C082AR12