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J-GLOBAL ID:200903010548639906
脱臭方法および脱臭装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中川 國男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002182592
Publication number (International publication number):2004024385
Application date: Jun. 24, 2002
Publication date: Jan. 29, 2004
Summary:
【課題】複合的な臭気にも広く利用でき、しかも脱臭要素と悪臭空気との接触効率を高められる脱臭方法および装置を提供する。【解決手段】脱臭室2内の悪臭空気3にオゾン水7を水膜状として散布して、悪臭空気3中の悪臭成分をオゾン水7の水により溶解し、かつ悪臭空気3中の悪臭成分をオゾン水7中のオゾンにより分解するとともに、脱臭室2内に配置された担体10の表面の光触媒層9に反応促進用の光を照射することにより、光触媒の分解反応により、悪臭を分解し、悪臭空気3を脱臭する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
悪臭空気にオゾン水を水膜状として散布することにより、悪臭空気中の悪臭成分を水により溶解し、かつ悪臭空気中の悪臭成分をオゾンにより分解するとともに、光触媒層に反応促進用の光を照射し、光触媒の分解反応により、悪臭空気を脱臭することをことを特徴とする脱臭方法。
IPC (11):
A61L9/00
, A61L9/14
, A61L9/18
, B01D53/14
, B01D53/18
, B01D53/86
, B01J19/12
, B01J35/02
, F24F1/00
, F24F1/02
, F24F3/16
FI (12):
A61L9/00 C
, A61L9/14
, A61L9/18
, B01D53/14 103
, B01D53/18 E
, B01J19/12 C
, B01J35/02 J
, F24F3/16
, B01D53/36 J
, B01D53/36 H
, F24F1/00 371B
, F24F1/02 381B
F-Term (63):
3L051BC02
, 3L051BC03
, 3L051BC05
, 3L053BD01
, 3L053BD05
, 3L053BD10
, 4C080AA07
, 4C080AA09
, 4C080BB02
, 4C080CC01
, 4C080HH03
, 4C080HH05
, 4C080JJ01
, 4C080KK08
, 4C080LL02
, 4C080LL03
, 4C080MM02
, 4C080MM08
, 4D020AA09
, 4D020BA23
, 4D020BB03
, 4D020BC05
, 4D020CB25
, 4D020CC11
, 4D020CD03
, 4D048AA22
, 4D048AB03
, 4D048AC07
, 4D048BA07X
, 4D048BA27X
, 4D048BA41X
, 4D048BB02
, 4D048BB07
, 4D048BB13
, 4D048CC25
, 4D048EA01
, 4G069AA03
, 4G069AA11
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069BC60B
, 4G069CA10
, 4G069CA17
, 4G069EA12
, 4G069EA18
, 4G075AA03
, 4G075AA13
, 4G075AA37
, 4G075BA04
, 4G075BA05
, 4G075BB04
, 4G075BD07
, 4G075BD13
, 4G075BD26
, 4G075CA33
, 4G075CA51
, 4G075CA54
, 4G075DA02
, 4G075EA01
, 4G075EB01
, 4G075EB31
, 4G075EC01
, 4G075EE33
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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排気類の殺菌・脱臭装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-015348
Applicant:東光鉄工株式会社
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脱臭器
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-140035
Applicant:クリナップ株式会社
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オゾン使用脱臭装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-015539
Applicant:株式会社ササクラ
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特公平5-015488
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特公平5-015488
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