Pat
J-GLOBAL ID:200903010560785322
薄膜形成用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いた感光材料
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
阿形 明 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000284132
Publication number (International publication number):2002091003
Application date: Sep. 19, 2000
Publication date: Mar. 27, 2002
Summary:
【要約】【課題】 総合的な品質管理上必要なディフェクト低減を実現するのに有効で、しかも感度、解像度が優れ、塗布むらの発生がなく、良好なレジストパターン形状を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び所望に応じ(C)第三級脂肪族アミン又は(D)有機カルボン酸あるいは(C)及び(D)の両方を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、界面活性剤の含有量を50ppm以下に調整する。
Claim (excerpt):
(A)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、界面活性剤の含有量が50ppm以下に調整されていることを特徴とする薄膜形成用ポジ型レジスト組成物。
IPC (11):
G03F 7/039 601
, C08K 5/00
, C08K 5/09
, C08K 5/17
, C08L 25/18
, C08L 45/00
, C08L 65/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 504
, G03F 7/11 503
, H01L 21/027
FI (12):
G03F 7/039 601
, C08K 5/00
, C08K 5/09
, C08K 5/17
, C08L 25/18
, C08L 45/00
, C08L 65/00
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 504
, G03F 7/11 503
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 574
F-Term (44):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB15
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CB55
, 2H025CB56
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025DA34
, 4J002BC04W
, 4J002BC04X
, 4J002BC12W
, 4J002BC12X
, 4J002BK001
, 4J002CE001
, 4J002EF038
, 4J002EF078
, 4J002EF088
, 4J002EF098
, 4J002EF108
, 4J002EF118
, 4J002EN028
, 4J002EN108
, 4J002EQ016
, 4J002ES006
, 4J002EU186
, 4J002EV246
, 4J002EV296
, 4J002FD317
, 4J002GP03
, 5F046PA02
, 5F046PA03
, 5F046PA04
, 5F046PA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-261053
Applicant:日本ゼオン株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-023499
Applicant:日本ゼオン株式会社
-
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-186272
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
感放射線組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-046374
Applicant:三菱化学株式会社
-
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-250050
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-170197
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-191020
Applicant:東京応化工業株式会社
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-030912
Applicant:ジェイエスアール株式会社
-
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-175638
Applicant:東京応化工業株式会社
-
フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-294291
Applicant:旭硝子株式会社
-
レジスト材料及びパタ-ン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-255113
Applicant:信越化学工業株式会社
-
フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-184169
Applicant:住友化学工業株式会社
Show all
Return to Previous Page