X線マスクおよびX線マスクの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：木村高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991186666
Publication number (International publication number)：1993036590
Application date： Jul. 25, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】バックエッチの際にX線吸収体薄膜パタ-ンの位置ずれを防止し高精度のX線マスクを提供し、また露光装置においてX線マスクの変形を防止し、高精度のパターン露光を行うことのできる簡単なX線マスク構造を提供する。【構成】 X線マスク支持体として、X線透過膜を形成したときに、X線マスク支持体が平坦となるように、あらかじめ反りを有するX線マスク支持体を用いる。また補強枠にX線マスク支持体を直接接合する際に、補強枠あるいはX線マスク支持体のいずれか一方を弾性体を介して加圧する。さらに、X線吸収体パターンを担持する第1のX線透過性薄膜との間に、X線線源側に所定の空間を有するように第2のX線透過性薄膜を配設して閉空間を形成し、この内部にヘリウムガス等を封入するとともに、この閉空間と大気側とを結ぶ通気孔を形成する。

Claim (excerpt)：

表面に形成するX線透過性薄膜の応力に応じてあらかじめ決定された反り量を有するマスク支持体を形成するマスク支持体形成工程と前記マスク支持体上にX線透過性薄膜を形成し、前記マスク支持体が平坦となるようにするX線透過性薄膜形成工程と、前記X線透過性薄膜上にX線吸収体薄膜を形成するX線吸収体薄膜形成工程と、前記X線吸収体薄膜を所望の形状にパタ-ニングするX線吸収体薄膜パタ-ン形成工程と前記マスク支持体の裏面に補強枠を直接接合する補強枠接合工程とを含むことを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G03F 7/20 503

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-162714
特開昭61-245160
特開平1-266722

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