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J-GLOBAL ID：200903010576564725

フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法

Inventor： 安江 秀国 ,  小谷 武 ,  西嶋 佳孝 ,  宝山 隆博
Applicant, Patent owner： ナガセ化成工業株式会社
Agent (1)： 南條 博道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000393430
Publication number (International publication number)：2002196509
Application date： Dec. 25, 2000
Publication date： Jul. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジスト剥離性に優るフォトレジスト剥離剤組成物を提供すること。【解決手段】 ケトンを除く極性有機溶剤と水と水加ヒドラジンとアルカリアミンまたはアルカノールアミンで、フォトレジスト剥離剤組成物を構成する。

Claim (excerpt)：

ケトンを除く極性有機溶剤、水、および水加ヒドラジンを含有するフォトレジスト剥離剤組成物。

IPC (3)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308

FI (3)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/308 G ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (4)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  5F043CC16