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J-GLOBAL ID：200903010578530658

肌荒れ改善用化粧料

Inventor： 高橋 淳 ,  西田 美晴
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998055747
Publication number (International publication number)：1999228380
Application date： Feb. 20, 1998
Publication date： Aug. 24, 1999
Summary：

【要約】【目的】 肌荒れを防止し、肌荒れを改善する効果に優れた化粧料を提供する。【構成】 ピリドキシンまたはその誘導体と、皮膚角層中に存在する自然保湿印紙(NMF)とを配合する肌荒れ改善用化粧料。

Claim (excerpt)：

ピリドキシンまたはその誘導体および皮膚角層中に存在する自然保湿因子(以下NMF成分と称する)を配合してなることを特徴とする肌荒れ改善用化粧料。

IPC (2)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00

FI (6)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 H ,  A61K 7/00 D ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 B ,  A61K 7/00 W