EUVを使用するパターン・ジェネレータ

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000534917
Publication number (International publication number)：2002506232
Application date： Mar. 02, 1999
Publication date： Feb. 26, 2002
Summary：

【要約】本発明は、半導体チップ上のパターンなどのような、加工品に極めて高い解像度を有するパターンを作成する装置に関する。本装置は、EUV波長範囲の電磁放射を発する源と、多数の画素を有する空間光変調装置(SLM)と、書き込まれるパターンのデジタル表現を受信し、そこから連続する部分的パターンを抽出し、この部分的パターンを変調装置信号に変換して、その信号を変調装置に供給する電子データ処理及び伝送システムと、前記加工品及び/又は投射系を相対的に移動させるための高精度機械システムとから構成されている。さらに、本装置は、部分的画像をつなぎ合わせて前記パターンを作成できるように、加工品の動作と、変調装置への信号の供給と、放射光の輝度を調整する電子制御システムを具備している。

Claim (excerpt)：

加工品に極めて高い解像度を有するパターン、例えば半導体チップ上の50nm幅のラインを有するパターンなどを作成する装置であって、該装置は、 EUV波長範囲の電磁放射を放射する源と、前記放射により照らされるようにされた多数の変調素子(画素)を有する空間光変調装置と、加工品に変調装置の画像を生成する投射系と、書き込まれるパターンのデジタル表現を受信して、そこから連続した部分的パターンを抽出し、前記部分的パターンを変調装置信号に変換し、前記信号を該変調装置に供給する電子データ処理及び伝送システムと、加工品及び/又は投射系を相対的に移動させるための精密機械システムと、加工品の移動と、前記変調装置への信号の供給と、前記放射の輝度を調整し、その結果前記パターンが前記連続した部分的パターンによって作成された部分的画像からつなぎ合わされる電子制御システムとを有するパターン作成装置。

IPC (5)：

G02B 26/08 , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/027

FI (5)：

G02B 26/08 E , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/30 519

F-Term (18)：

2H041AA16 , 2H041AB14 , 2H041AC06 , 2H041AC08 , 2H041AZ02 , 2H041AZ05 , 2H095BA01 , 2H095BB01 , 2H097AA02 , 2H097CA06 , 2H097CA11 , 2H097GB04 , 5F046AA05 , 5F046BA03 , 5F046BA06 , 5F046CA07 , 5F046CB27 , 5F046DA12

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