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J-GLOBAL ID：200903010630078424

ニツケル薄膜形成材料

Inventor： 岡本 浩治
Applicant, Patent owner： 田中貴金属工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991253050
Publication number (International publication number)：1993065656
Application date： Sep. 04, 1991
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 1ミクロン以下のニッケル薄膜を大気中で塗布、乾燥、焼成という簡便な方法でガラスやセラミックスの基材に形成させることができ、酸化していないニッケル薄膜を形成することのできる材料を提供することにある。【構成】 ニッケル有機酸塩あるいはアセチルアセトンの錯体と有機ほう素化合物と有機樹脂と有機溶媒を任意の割合で混合し均一な溶液としたもので目的を達成させることができる。またニッケル薄膜の密着性を高めるためにガラス成分等の樹脂酸の金属塩を適量加えて使用することもできる。

Claim (excerpt)：

ニッケル化合物とほう素化合物と有機樹脂と有機溶媒から成るニッケル薄膜形成材料。

IPC (4)：

C23C 18/08 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00 503 ,  H01B 1/16