Pat
J-GLOBAL ID:200903010632315601
水素生成装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000248363
Publication number (International publication number):2002060206
Application date: Aug. 18, 2000
Publication date: Feb. 26, 2002
Summary:
【要約】【課題】 変成部の一酸化炭素低減特性を安定的に発揮させることを可能とし、水素の安定供給を実現する水素生成装置を安易に提供する。【解決手段】 貴金属と金属酸化物を構成材料とする変成触媒体を設けた変成部と、前記変成部に少なくとも一酸化炭素と水蒸気を副成分として含む水素ガスを供給する水素ガス供給部を具備する装置において、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して上流に位置する部分を300°C以上500°C以下の範囲の温度に、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して下流に位置する部分を300°C以下の温度に維持することを特徴とする水素生成装置。
Claim (excerpt):
貴金属と金属酸化物を構成材料とする変成触媒体を設けた変成部と、前記変成部に少なくとも一酸化炭素と水蒸気を副成分として含む水素ガスを供給する水素ガス供給部を具備する装置において、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して上流に位置する部分を300°C以上500°C以下の範囲の温度に、前記変成触媒体で前記水素ガス流れに対して下流に位置する部分を300°C以下の温度に維持することを特徴とする水素生成装置。
IPC (4):
C01B 3/48
, B01J 23/63
, H01M 8/06
, H01M 8/10
FI (4):
C01B 3/48
, H01M 8/06 G
, H01M 8/10
, B01J 23/56 301 M
F-Term (37):
4G040EA02
, 4G040EA03
, 4G040EA06
, 4G040EB12
, 4G040EB32
, 4G040EB41
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01B
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BC35A
, 4G069BC35B
, 4G069BC43A
, 4G069BC43B
, 4G069BC69A
, 4G069BC70A
, 4G069BC71A
, 4G069BC72A
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069CB81
, 4G069CC26
, 4G069CC32
, 4G069DA06
, 4G069EA02Y
, 4G069EB18Y
, 4G069EE09
, 4G069FA02
, 4G069FB14
, 5H026AA06
, 5H027AA04
, 5H027AA06
, 5H027BA01
, 5H027BA17
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