Pat
J-GLOBAL ID:200903010633554910

流体の浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 了司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003391705
Publication number (International publication number):2005152708
Application date: Nov. 21, 2003
Publication date: Jun. 16, 2005
Summary:
【課題】 流体を攪拌混合しながら光触媒を用いて流体を浄化する装置において、流体の攪拌混合に回転翼のような可動物体を用いないことにより、小型で効率的な流体の浄化装置を提供する。【解決手段】 流体の通過が可能な円筒形の外管11内に外管11内を直径方向に横切る多数枚の板状混合エレメント12、13を直列に配列し、かつ隣接する混合エレメント12,13が互いに交差するように連結してなるスタティックミキサー10における上記混合エレメント12,13の表裏両面に金属酸化物からなる光触媒層を形成し、この表裏両面の光触媒層に対して紫外線ランプ14および反射板15から紫外線を照射する。 【選択図】 図1
Claim (excerpt):
流体の通過が可能な円筒形の外管内に外管内を直径方向に横切る板状の混合エレメント多数枚を直列に配列し、かつ隣接する混合エレメントが互いに交差するように連結してなるスタティックミキサーにおける上記混合エレメントの表裏両面に金属酸化物からなる光触媒層を形成し、この表裏両面の光触媒層に対して外管の外側または内側から紫外線を照射するようにしたことを特徴とする流体の浄化装置。
IPC (6):
B01J19/12 ,  B01F5/00 ,  B01J19/24 ,  B01J35/02 ,  C02F1/32 ,  C02F1/72
FI (6):
B01J19/12 C ,  B01F5/00 F ,  B01J19/24 A ,  B01J35/02 J ,  C02F1/32 ,  C02F1/72 101
F-Term (45):
4D037AA01 ,  4D037AA08 ,  4D037AB03 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB04 ,  4D050AA01 ,  4D050AA08 ,  4D050AB06 ,  4D050AB19 ,  4D050AB45 ,  4D050BC06 ,  4D050BD06 ,  4D050CA07 ,  4G035AC09 ,  4G069AA08 ,  4G069BA17 ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069CA02 ,  4G069CA05 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069EA08 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4G075AA03 ,  4G075AA13 ,  4G075AA37 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075CA33 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075DA12 ,  4G075EB01 ,  4G075EB21 ,  4G075EB32 ,  4G075EB33 ,  4G075EE02 ,  4G075EE06 ,  4G075EE31 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4G075FC04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
  • 実用新案登録第3090000号公報
  • 特公平4-28794号公報
  • 光触媒ユニット
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-114496   Applicant:有吉治男
Show all
Cited by examiner (3)
  • 反応器および反応方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-318324   Applicant:ダイセル化学工業株式会社
  • ミキシングエレメント及びその製造方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-115817   Applicant:小嶋久夫
  • 流体浄化方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-140109   Applicant:株式会社城津エンジニアリング, 有限会社創歩エンジニアリング

Return to Previous Page