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J-GLOBAL ID：200903010646483531

熱処理装置

Inventor： 小林 聡樹
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
Agent (1)： 金坂 憲幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993225071
Publication number (International publication number)：1995058048
Application date： Aug. 19, 1993
Publication date： Mar. 03, 1995
Summary：

【要約】【目的】 腐食性を有する排ガスが内管と外管の分離した下端部間を通ってマニホールドに接触することにより生じる腐食を防止することができ、マニホールドの耐久性の向上が図れる熱処理装置を提供する。【構成】 金属製のマニホールド2上に耐熱耐食性を有する内管3と外管4とを同心状に設ける。前記内管3内に収容された被処理体13に加熱雰囲気下で下方から処理ガスを供給し、処理後の排ガスを前記内管3と外管4との間を通して排気する。前記マニホールド2に接する内管3の下端部と外管4の下端部との間に、シールガスSを噴出させるための所定の隙間34を形成する。これにより前記マニホールド2に接する内管3と外管4の下端部間がシールされ、腐食性を有する排ガスによるマニホールド2の腐食が防止される。

Claim (excerpt)：

金属製のマニホールド上に耐熱耐食性を有する内管と外管とを同心状に設け、前記内管内に収容された被処理体に加熱雰囲気下で下方から処理ガスを供給し、処理後の排ガスを前記内管と外管との間を通して排気するようにした熱処理装置において、前記マニホールドに接する内管の下端部と外管の下端部との間に、シールガスを噴出させるための所定の隙間を設けたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/22 511 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324