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J-GLOBAL ID：200903010656514818

偏光板の製造法

Inventor： 北 村 秀 一 ,  鈴 木 恵 太 ,  石 崎 恵 治
Applicant, Patent owner： 日本合成化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994121995
Publication number (International publication number)：1995306315
Application date： May. 10, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】接着剤層の厚み分布が均一で、外観特性に優れ湿熱下に長時間放置しても良好な接着性を保持した偏光板の製造法を提供すること。【構成】ポリビニルアルコール系偏光膜(A)の少なくとも一方の面に酢酸セルロース系保護膜(B)を接着してなる偏光板を製造するに当たり、酢酸セルロース系保護膜(B)の表面にポリビニルアルコール系樹脂(C)を予め積層しておき、接着時に加湿によりポリビニルアルコール系樹脂(C)表面の水に対する接触角を40度以下に調整した後、ポリビニルアルコール系偏光膜(A)と接着させることを特徴とする偏光板の製造法。

Claim (excerpt)：

ポリビニルアルコール系偏光膜(A)の少なくとも一方の面に酢酸セルロース系保護膜(B)を接着してなる偏光板を製造するに当たり、酢酸セルロース系保護膜(B)の接着面にポリビニルアルコール系樹脂(C)を予め積層しておき、接着時に加湿によりポリビニルアルコール系樹脂(C)表面の水に対する接触角を40度以下に調整した後、ポリビニルアルコール系偏光膜(A)と接着させることを特徴とする偏光板の製造法。