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J-GLOBAL ID：200903010703094440

ウエハ加熱装置

Inventor： 鈴木 雅史
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992015562
Publication number (International publication number)：1993217930
Application date： Jan. 30, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、ウエハ加熱装置に関し、ウエハ面内での温度分布を均一にすることができるとともに、正確なウエハ温度を測定することができ、しかも、真空度を保って処理したい際、真空度の低下を抑えることができるウエハ加熱装置を提供することを目的とする。【構成】 ウエハ側処理室2と赤外線放射加熱源4側とを分離する赤外線放射率の高い薄膜6と、該ウエハ側処理室2と該加熱源4側の差圧を制御する圧力制御手段9、10、11とを有するように構成する。

Claim (excerpt)：

ウエハ側処理室(2)と赤外線放射加熱源(4)側とを分離する赤外線放射率の高い薄膜(6)と、該ウエハ側処理室(2)と該加熱源(4)側の差圧を制御する圧力制御手段(9、10、11)とを有することを特徴とするウエハ加熱装置。

IPC (5)：

H01L 21/26 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/324