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J-GLOBAL ID：200903010712830620

露光システム

Inventor： 楠本 博
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 伊東 哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998318323
Publication number (International publication number)：2000133577
Application date： Oct. 22, 1998
Publication date： May. 12, 2000
Summary：

【要約】【課題】 露光システムを構成する各装置の空き時間を少なくして露光システムの運用効率を向上させる。【解決手段】 露光装置、レジスト塗布装置および現像装置をインライン接続してなる露光システムにおいて、予め次のロットのレシピおよび被処理基板数を与えられ、このレシピに基づいて被処理基板1枚当たりのレジスト処理、露光処理および現像処理にかかる各予測時間を算出し、前記次のロットの処理を開始するに当たり、これらの予測時間と前記被処理基板数と現在のロットの処理状態とから次のロットのカセット搬出可能予測時刻を算出するコントローラを設ける。

Claim (excerpt)：

露光装置、レジスト塗布装置および現像装置をインライン接続してなる露光システムであって、予め次のロットのレシピおよび被処理基板数を与えられ、このレシピに基づいて被処理基板1枚当たりのレジスト処理、露光処理および現像処理にかかる各予測時間を算出し、前記次のロットの処理を開始するに当たり、これらの予測時間と前記被処理基板数と現在のロットの処理状態とから次のロットのカセット搬出可能予測時刻を算出するコントローラを具備することを特徴とする露光システム。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 502 G ,  G03F 7/20 521

F-Term (11)：

5F046AA17 ,  5F046CD01 ,  5F046CD04 ,  5F046CD05 ,  5F046DA29 ,  5F046DD06 ,  5F046JA22 ,  5F046KA01 ,  5F046KA07 ,  5F046LA13 ,  5F046LA18