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J-GLOBAL ID：200903010719656715

プラズマ処理装置

Inventor： 吉木 宏之 ,  近藤 一喜 ,  石井 晶 ,  天立 茂樹 ,  西條 達也 ,  板谷 耕司 ,  青山 隆浩
Applicant, Patent owner： 株式会社ダイヘン
Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995217287
Publication number (International publication number)：1996138889
Application date： Aug. 25, 1995
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【課題】 被処理物に対して広い面積に亘って均一にプラズマ処理することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 側壁の細長い窓部の内側に被処理物が配置されるプラズマ室と、管軸方向に沿って伸びるスロットをE面に有し、管軸方向が窓部の長手方向と平行となり、かつスロットが窓部に対向させた状態で形成されたプラズマ室結合用方形導波管を備え、方形導波管からスロットを介してプラズマ室へマイクロ波を放射させる。ここで、少なくとも2つのスロットをそれぞれ少なくとも1つの方形導波管に設け、各長尺スロットの長手方向の長さがマイクロ波の自由空間波長の1/2以上に設定され、各長尺スロットを互いに平行に、かつ隣り合う各長尺スロットを交互に方形導波管の管軸方向にマイクロ波の自由空間波長の(2n-1)/4(ここで、nは自然数である。)だけずらせて形成した。

Claim (excerpt)：

側壁に細長い窓部を有し、上記窓部の内側に被処理物が配置されるプラズマ室と、長尺スロットが上記プラズマ室の窓部に対向しかつ管軸方向に沿って延在するようにE面に形成され、管軸方向が上記プラズマ室の窓部の長手方向と平行となるように配置されたプラズマ室結合用方形導波管と、上記方形導波管にマイクロ波を供給するマイクロ波電源手段とを備え、上記方形導波管から上記長尺スロットを介して上記プラズマ室へマイクロ波を放射させるプラズマ処理装置において、少なくとも2つの上記長尺スロットをそれぞれ少なくとも1つの上記方形導波管に設け、上記各長尺スロットの長手方向の長さがマイクロ波の自由空間波長の1/2以上に設定され、上記各長尺スロットを互いに平行に、かつ隣り合う上記各長尺スロットを互いに交互に上記方形導波管の管軸方向にマイクロ波の自由空間波長の(2n-1)/4(ここで、nは自然数である。)だけずらせて形成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065