Pat

J-GLOBAL ID：200903010751035625

疎水性シリカ微粉末の製造方法

Inventor： 野沢 保明 ,  白砂 潔 ,  上原 秀和 ,  松澤 隆行
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000084891
Publication number (International publication number)：2001261327
Application date： Mar. 24, 2000
Publication date： Sep. 26, 2001
Summary：

【要約】【解決手段】 シラン化合物を熱分解することにより得られた熱分解法シリカ微粉末を流動層中でオルガノハロシランにより処理して疎水性シリカを製造する方法において、流動槽内のガス流動速度を1.4cm/sec以上3cm/sec以下とすることを特徴とする疎水性シリカ微粉末の製造方法。【効果】 本発明によれば、製造条件の制御が容易な方法でシリカ当り少ないシランの量で目的の処理度が達成できる。廃ガス中の未反応シランが少ないことから、シランの重合による配管の目詰まりが大幅に減少される。また、ガス流動速度が小さいことは流動用のガスが少ないことであり、窒素の使用量を少なく出来、処理シリカのコストが下がるメリットも有する。

Claim (excerpt)：

シラン化合物を熱分解することにより得られた熱分解法シリカ微粉末を流動層中でオルガノハロシランにより処理して疎水性シリカを製造する方法において、流動槽内のガス流動速度を1.4cm/sec以上3cm/sec以下とすることを特徴とする疎水性シリカ微粉末の製造方法。

IPC (2)：

C01B 33/18 ,  C09C 1/28

FI (2)：

C01B 33/18 C ,  C09C 1/28

F-Term (12)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH28 ,  4G072KK17 ,  4G072RR01 ,  4G072RR17 ,  4G072TT05 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037FF25