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J-GLOBAL ID：200903010755298108

光断層画像化装置

Inventor：
寺村 友一

About 寺村 友一

, 
赤堀 貞登

About 赤堀 貞登

, 
森島 嘉克

About 森島 嘉克


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (3)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛 ,  本澤 大樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007296456
Publication number (International publication number)：2008145429
Application date： Nov. 15, 2007
Publication date： Jun. 26, 2008
Summary：
【課題】離散的な複数の光束を射出する簡便な光源の構成により良好な画質の光断層画像を取得する。【解決手段】光源ユニット10から波長帯域λ1、λ2が離散した複数の第1光束La、第2光束Lbが射出され光分割手段3に入射される。光分割手段3において各光束La、Lbは測定光L1a、L1bと参照光L2a、L2bとに光分割される。測定光L1a、L1bは測定対象Sに照射され測定対象Sの各深さ位置zにおいて反射した反射光L3が合波手段4に入射される。参照光L2a、L2bは光ファイバFB3を導波し合波手段4に入射される。反射光L3aと参照光L2aとの干渉光L4aおよび反射光L3bと参照光L2bとの干渉光L4bが干渉光検出手段40において光電変換され、干渉信号ISa、ISbとが生成され、干渉信号ISa、ISbを用いて断層画像が取得される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
互いに離散した波長帯域内においてそれぞれ連続したスペクトルを有する複数の光束を射出する光源ユニットと、 該光源ユニットから射出された前記各光束をそれぞれ測定光と参照光とに分割する光分割手段と、 該光分割手段により分割された複数の前記測定光が測定対象に照射されたときの該測定対象からの反射光と前記参照光とを前記各光束毎にそれぞれ合波する合波手段と、 該合波手段において前記反射光と前記参照光とが合波されたときの干渉光を干渉信号として前記各光束毎にそれぞれ検出する干渉光検出手段と、 該干渉光検出手段により検出された複数の前記干渉信号を用いて前記測定対象の断層画像を生成する断層画像処理手段と を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。
IPC (2)：
G01N 21/17 ,  G01N 21/01
FI (2)：
G01N21/17 625 ,  G01N21/01 D
F-Term (30)：
2G059AA01 ,  2G059AA02 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059BB14 ,  2G059EE02 ,  2G059EE10 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059FF09 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059GG03 ,  2G059GG08 ,  2G059GG09 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ03 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ06 ,  2G059JJ07 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK04 ,  2G059LL02 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059NN01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (10)
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