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J-GLOBAL ID:200903010798582209
波長可変フィルタおよびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
三好 秀和 (外8名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997297186
Publication number (International publication number):1999133365
Application date: Oct. 29, 1997
Publication date: May. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 偏光依存性がなく、かつ応答速度の速い波長可変フィルタを提供する。【解決手段】 両側に反射面21,22を設けたエタロンの内部に空乏層13を発生させ、この空乏層13の厚みdを変えることにより、共振波長を変えて選択的に所定の波長の光を通過させる。空乏層発生手段はp+ 領域11およびn領域12とからなるpn接合でもよく、MOS構造,ショットキー接合等でもよい。
Claim (excerpt):
エタロン部を構成する半導体領域の内部に空乏層を発生する手段を具備し、該空乏層の厚みを変化させることにより所望の波長の光を通過させることを特徴とする波長可変フィルタ。
IPC (2):
G02F 1/015 505
, G02B 5/28
FI (2):
G02F 1/015 505
, G02B 5/28
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