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J-GLOBAL ID：200903010835722784

冷凍サイクル内適用機器用洗浄剤組成物

Inventor： 岸本 宏司 ,  大塚 博士 ,  和田 寛 ,  播井 良司 ,  河本 隆雄 ,  池ケ谷 満 ,  森 秀樹 ,  横山 岩夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ネオス ,  三菱電機株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991158307
Publication number (International publication number)：1993009764
Application date： Jun. 28, 1991
Publication date： Jan. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 フロン系洗浄剤に代替し得る水溶性の冷凍サイクル内適用機器用洗浄剤組成物を提供する。【構成】 ケイ酸塩、リン酸塩およびキレート化剤を少なくとも1種づつ含むビルダーおよびアニオン系界面活性剤とノニオン系界面活性剤から成る群から選択される少なくとも1種の界面活性剤を2:1〜99:1の重量比で含有する冷凍サイクル内適用機器用洗浄剤組成物。

Claim (excerpt)：

ケイ酸塩、リン酸塩およびキレート化剤を少なくとも1種づつ含むビルダーおよびアニオン系界面活性剤とノニオン系界面活性剤から成る群から選択される少なくとも1種の界面活性剤を2:1〜99:1の重量比で含有する冷凍サイクル内適用機器用洗浄剤組成物。

IPC (5)：

C23G 1/02 ,  C11D 10/02 ,  C11D 1:72 ,  C11D 7:32 ,  C11D 3:30