Pat

J-GLOBAL ID：200903010889348713

エリプソパラメータ測定方法及びエリプソメータ

Inventor： 山田 健夫 ,  風間 彰 ,  大重 貴彦
Applicant, Patent owner： 日本鋼管株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991315686
Publication number (International publication number)：1993157521
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 エリプソメータに含まれる可動光学部材を除去して、測定速度を上昇するとともに、膜厚測定において常に一定の高い測定精度を維持する。【構成】 光源部から測定対象に入射されて、この測定対象にて反射された楕円偏光を有する反射光を互いに方向が異なる4つの偏光成分に分離して各偏光成分の光強度を検出し、検出された4つの光強度のうち値が最も小さい光強度を破棄して、値が大きい残りの3つの光強度を用いてエリプソパラメータψ,Δを算出している。また、可動する光学部材を排除して固定光学部材のみで構成している。さらに、4つの光強度を得る各偏光成分の偏光方向をそれぞれ基準方向に対して90°,0°,+45°,-45°に設定している。また、4つの偏光成分を取出すために複合ビームスプリッタを用いている。

Claim (excerpt)：

測定対象に対して偏光した光を所定角度で入射させ、この測定対象の反射光をそれぞれ互いに異なる4つの偏光成分に分離し、この分離された4つの偏光成分の光強度のうち値の大きい3つの光強度を選択してこの3つの光強度に基づいてエリプソパラメータを求めることを特徴とするエリプソパラメータ測定方法。

IPC (3)：

G01B 11/06 ,  G01J 4/04 ,  G01N 21/21