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J-GLOBAL ID：200903010973909542
ポジ型フォトレジスト組成物
Inventor：
,
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997125686
Publication number (International publication number)：1998097075
Application date： May. 15, 1997
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 優れた感度、解像力を有し、更に露光-PEBの経時により、T-top形成、DOF低下、解像力劣化および感度低下等のレジスト性能の変化が少ない化学増幅系ポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。【解決手段】 特定の繰り返し構造単位を含む樹脂例えば下記(1)式の化合物、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに特定のポリヒドロキシ化合物例えば下記(2)式の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で表される樹脂及び/又は下記一般式(A)、(B)及び(C)で表される繰り返し構造単位を含み、該一般式(C)で表される繰り返し構造単位において一般式(D)で表される連結基による架橋構造を有する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、並びに下記一般式(II)又は一般式(III) で表される化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(A)、(B)、(C)、(D)中、RX :水素原子、メチル基Ra、Rb、Rd、Re、Rg、Rh:各々独立に水素原子、炭素数1〜8個の直鎖アルキル基、炭素数3〜8個の分岐アルキル基、炭素数3〜6個の環状アルキル基(但し、Ra、Rb、Rd、Re、Rg、Rhは同時に水素原子を表さない。また、RaとRb、RaとRc、RdとRe、又はRgとRhは、それぞれ結合して環を形成してもよい。)、Rc:炭素数1〜8個の直鎖アルキル基、炭素数3〜8個の分岐アルキル基、炭素数3〜6個の環状アルキル基、【化2】Rf:炭素数1〜6個の直鎖アルキレン基、炭素数3〜8個の分岐アルキレン基、炭素数3〜6個の環状アルキレン基、【化3】Ri、Rj:各々独立に水素原子、炭素数1〜6個の直鎖アルキル基、炭素数3〜8個の分岐アルキル基、炭素数3〜6個の環状アルキル基を表し、ここで、式(A)、(B)、(C)で表される繰り返し構造単位の含有モル比は、 0.05≦式(B)/(式(A)+式(B)+式(C))≦0.900.001≦式(C)/(式(A)+式(B)+式(C))≦0.20である。【化4】式(I)中、RX 、Ra、Rb、Rcは、前記と同義である。l、m:l+m=1000.05≦m/(l+m)≦0.90を表す。【化5】式(II)、(III) 中、A:水素原子もしくは水酸基、E、G:それぞれ下記で表される基、【化6】R1〜R4:それぞれ水素原子、-X-R13もしくはハロゲン原子、R5〜R6:それぞれ水素原子、メチル基、エチル基、炭素数1〜2個のハロアルキル基、R7:水素原子、メチル基、エチル基、炭素数1〜2個のハロアルキル基、a〜f及びk〜n:各々0もしくは1〜3の整数、g〜j:各々0、1もしくは2、p:1〜3の整数、Dは単結合、カルボニル基、スルフィド基、スルフォニル基、-C(R5)(R6)-もしくは下記で表される基、【化7】R8〜R12:それぞれ水素原子、-OH、-CN、-COOH、-X-R13もしくはハロゲン原子、R13:炭素数1〜8個のアルキル基、X:単結合、-O-、-S-、-CO-、-OCO-、を表す。
IPC (6)：
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
, H05K 3/06
, C08F 12/22
, C08L 25/18
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H05K 3/06 H
, C08F 12/22
, C08L 25/18
, H01L 21/30 502 R
