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J-GLOBAL ID：200903010974773997

反射防止膜組成物及びこれを用いたパタンの製造法

Inventor： 粕谷 圭 ,  橋本 通晰
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993323951
Publication number (International publication number)：1995181684
Application date： Dec. 22, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 工程数を増やすことなく、レジストの感度の低下を伴わずにパタンの微細化ができる反射防止膜組成物を提供する。【構成】 ポリ(ビニルメチルエーテル)樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有し、レジスト膜上に形成される反射防止膜組成物ならびにこの反射防止膜組成物を用いて反射防止膜を形成する工程を含むパタンの製造法。

Claim (excerpt)：

ポリ(ビニルメチルエーテル)樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有し、レジスト膜上に形成される反射防止膜組成物。

IPC (6)：

G03F 7/11 501 ,  C08L 29/10 LGZ ,  C09D 5/00 PPQ ,  C09D129/10 PFP ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027