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J-GLOBAL ID：200903010978713867

排気ガス浄化装置への液状還元剤の注入装置

Inventor： ホフマン、ロタール ,  マテス、ウィーラント
Applicant, Patent owner： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 山口 巖
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000520226
Publication number (International publication number)：2001522970
Application date： Nov. 12, 1998
Publication date： Nov. 20, 2001
Summary：

【要約】排気ガス浄化装置への液状還元剤(8)の注入装置は、還元剤(8)を案内する還元剤供給管(6)並びに気体(20)を案内する気体管(24)がそれぞれ開口し還元剤(8)を気体(20)と混合するための混合室(4)と、気体管(24)内の気体圧(Pg)に関係して還元剤供給管(6)内の還元剤流量を制御するための制御装置(44)とを有している。

Claim (excerpt)：

還元剤(8)を案内する還元剤供給管(6)並びに気体(20)を案内する気体管(24)がそれぞれ開口し還元剤(8)を気体(20)と混合するための混合室(4)と、気体管(24)内の気体圧(Pg)に関係して還元剤供給管(6)内の還元剤流量を制御するための制御装置(44、56)とを備えている排気ガス浄化装置への液状還元剤の注入装置。

IPC (4)：

F01N 3/08 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/94

FI (3)：

F01N 3/08 B ,  B01D 53/34 129 E ,  B01D 53/36 101 A

F-Term (22)：

3G091AA06 ,  3G091AB04 ,  3G091CA16 ,  3G091DC01 ,  3G091FC04 ,  4D002AA12 ,  4D002BA06 ,  4D002CA01 ,  4D002DA57 ,  4D002GA03 ,  4D002GA04 ,  4D002GB04 ,  4D002GB05 ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AB03 ,  4D048AC03 ,  4D048CC38 ,  4D048CC61 ,  4D048DA01 ,  4D048DA07 ,  4D048DA10