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J-GLOBAL ID：200903011041398202

光酸発生化合物、及びポジ型レジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001057067
Publication number (International publication number)：2002255930
Application date： Mar. 01, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】 化学増幅型画像形成材料に有用な新規な化合物を提供すること、及び高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 新規なオニウム塩化合物と、そのオニウム塩化合物と特定の酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式(I-a)又は(I-b)で表される化合物。【化1】式中、R1、R2は同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を表し、R3、R4は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、-S-R5を表す。但しR3、R4の少なくとも1つは水素原子以外の基である。R5は置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を表す。R6、R7は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、-S-R5を表す。R8、R9は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基を表す。R10はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、-O-R5を表す。nは0又は1〜3の整数を示す。また一般式(I-a)のR1〜R5の内の2つ、及び(I-b)のR1〜R10の内の2つが結合し、環を形成してもよい。X-はスルホン酸のアニオンを表す。

IPC (12)：

C07C381/12 ,  C07D307/33 ,  C07D331/04 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D339/06 ,  C07D339/08 ,  C07D409/04 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601

FI (12)：

C07C381/12 ,  C07D331/04 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  C07D339/06 ,  C07D339/08 ,  C07D409/04 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  C07D307/32 M

F-Term (30)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4C023JA05 ,  4C023NA01 ,  4C023PA03 ,  4C063CC92 ,  4C063DD73 ,  4C063EE10 ,  4H006AA01 ,  4H006AB92 ,  4H006TN60 ,  4J002AA031 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002CE001 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03