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J-GLOBAL ID：200903011056831662

指紋検知装置

Inventor： 菅 通久
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997075356
Publication number (International publication number)：1998269340
Application date： Mar. 27, 1997
Publication date： Oct. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】 明瞭な指紋パターンを長期的に得ることができるとともに、汚れを容易にクリーニング可能とする。【解決手段】 弾性層2の表面に撥水性を有する潤滑層11を設ける。潤滑層11としては、フッ素系樹脂やシリコーン系の離型剤が適しており、特に、弾性層表面に予めシラン系のカップリング剤を塗布した後に形成してもよい。また、潤滑層1を5μmであって、好ましくは0.5〜3μmの膜厚で形成し、弾性層2を50μm以下であって、好ましくは10〜20μmの膜厚で形成する。

Claim (excerpt)：

透明基体を介して指の指紋に光を照射し、その反射光から指紋パターンを検出する指紋検知装置において、透明基体上に形成された光透過性を有する薄膜からなり指紋稜線部の押圧によりわずかに弾性変形する弾性層と、この弾性層上に形成された光透過性を有する薄膜からなり撥水性を有し指紋稜線部の押圧により変形する潤滑層とを備えることを特徴とする指紋検知装置。

IPC (2)：

G06T 1/00 ,  A61B 5/117

FI (2)：

G06F 15/64 G ,  A61B 5/10 322

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 指紋読取センサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-269106   Applicant：ソニー株式会社
• 指紋照合装置用指紋センサ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-043024   Applicant：富士通株式会社
• 指紋検出装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-242660   Applicant：コニカ株式会社
• 特開平4-182879