Pat

J-GLOBAL ID：200903011068172893

ネガ型フォトレジスト組成物

Inventor： 中野 由子 ,  竹山 尚幹 ,  植田 裕治 ,  楠本 武宏 ,  植木 裕美
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993005797
Publication number (International publication number)：1994214392
Application date： Jan. 18, 1993
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】 遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、感度及び解像度等の諸性能に優れたネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及びナフタレン骨格を有する化合物を含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及びナフタレン骨格を有する化合物を含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 504 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027