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J-GLOBAL ID：200903011113171410

液体原料の気化装置およびそれを備えるCVD装置のクリーニング方法

Inventor： 三宅 浩二 ,  桑原 創
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 山本 惠二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997183184
Publication number (International publication number)：1999012740
Application date： Jun. 23, 1997
Publication date： Jan. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】 気化容器内に固着した残渣を短時間で効果的に除去することができる気化装置を提供する。【解決手段】 この気化装置8aは、液体原料4が導入される金属製の気化容器10と、当該容器10を加熱して内部に導入された液体を気化する加熱器12と、気化容器10内にそれとは電気的に絶縁して設けられた金属製のノズル14(電極手段)とを備えている。更に、気化容器10内に当該容器10内に生じる残渣を溶かすクリーニング液54を供給するクリーニング液供給装置50と、ノズル14と気化容器10間に高周波電力を供給して気化容器10内で、気化したクリーニング液54を用いてプラズマ76を生成するプラズマ生成電源72aとを備えている。

Claim (excerpt)：

液体原料が導入される導電材料製の気化容器と、この気化容器を加熱して内部に導入された液体を気化する加熱器と、前記気化容器内に当該容器内に生じる残渣を溶かすクリーニング液を供給するクリーニング液供給手段と、前記気化容器内に当該容器とは電気的に絶縁して設けられた導電材料製の電極手段と、この電極手段と気化容器との間に高周波電力またはパルス電圧を供給して気化容器内で、気化した前記クリーニング液を用いてプラズマを生成するプラズマ生成電源とを備えることを特徴とする液体原料の気化装置。

IPC (5)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (5)：

C23C 16/44 J ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 A