Pat
J-GLOBAL ID:200903011124391668
高分子光学材料およびそれを用いた光導波路
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999034924
Publication number (International publication number):2000230052
Application date: Feb. 12, 1999
Publication date: Aug. 22, 2000
Summary:
【要約】【課題】 広帯域の1.40-1.61μmにおいても低損失で、耐熱性、耐湿性が高く、かつ耐クラック性に優れた光学材料の提供【解決手段】 一般式(I)および(II)(式中R1 はフッ素化アルキル基である)を繰り返し単位とするものと、一般式(III)および(IV)(式中R2 はフッ素化アリールアルキル基である)を繰り返し単位とするものとの共重合体である高分子光学材料。【化5】
Claim (excerpt):
一般式(I)および(II)(式中R1 はフッ素化アルキル基である)を繰り返し単位とする重合体であることを特徴とする高分子光学材料。【化1】
IPC (2):
FI (2):
F-Term (17):
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA00
, 4J035BA04
, 4J035BA14
, 4J035CA05U
, 4J035CA051
, 4J035CA16N
, 4J035CA161
, 4J035EA01
, 4J035FB05
, 4J035LA03
, 4J035LB17
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