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J-GLOBAL ID：200903011127089245

投影露光装置

Inventor： 西 健爾
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999065669
Publication number (International publication number)：1999317365
Application date： Oct. 15, 1992
Publication date： Nov. 16, 1999
Summary：

【要約】【目的】 パルス発光型の光源を用いてスリットスキャン露光方式で露光を行うときに、露光対象となる基板上の積算露光量のむらを低減させる。【構成】 パルス発光される露光光による基板上での露光領域の走査方向の幅を、露光光のパルス発光間隔(1周期)に基板が移動する距離の整数倍とする。

Claim (excerpt)：

露光光をパルス発光するパルス光源と、前記露光光をマスクに照射する照明光学系と、前記マスクに対する前記露光光の照明領域を設定する視野絞りと、前記露光光のもとで前記マスクのパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系と、前記マスク及び前記感光基板を前記投影光学系の光軸に垂直な方向に前記視野絞りに対して相対的に移動させる相対移動手段とを有し、前記視野絞りにより設定される照明領域に対して、前記マスク及び前記感光基板を相対的に走査することにより、前記マスクの前記視野絞りにより設定される照明領域よりも広い領域のパターンの像を前記感光基板上に投影する投影露光装置において、前記視野絞りにより設定される前記マスク上の照明領域の前記感光基板上の投影像の前記相対的な走査の方向の幅を、前記パルス光源のパルス発光の1周期の間に前記感光基板が前記マスク上の照明領域の投影像に対して相対的に移動する距離の整数倍に設定した事を特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/23

FI (4)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/23 H ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 516 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-158449
  
• 特開平2-229423
  
• 特開昭63-190333