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J-GLOBAL ID：200903011128776190

プラズマ処理方法および装置

Inventor： 片山 克生
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 河野 登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993101144
Publication number (International publication number)：1994045098
Application date： Apr. 27, 1993
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ生成室内へマイクロ波を均一に導入し、プラズマ生成室内でのプラズマ分布を均一化する。【構成】 プラズマ生成室1のマイクロ波導入窓1bに連結する導波管2の途中に、マイクロ波の矩形TE10モードを円形TM01モードまたは円形TE01モードに変換するモード変換器5を設けると共に、前記マイクロ波導入窓1bを平凸形形状のレンズ部8bを有するマイクロ波透過物質8にて密封する。

Claim (excerpt)：

円形導波管のTM01モードまたは円形導波管のTE01モードのマイクロ波をその電界収束手段により真空容器内に導入し、プラズマを発生させ試料を処理することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (3)：

H05H 1/46 ,  C23C 14/34 ,  C23F 4/00