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J-GLOBAL ID：200903011136109240

転写による微細加工のための型およびその製造方法

Inventor： 杉村 博之
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 三品 岩男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997014088
Publication number (International publication number)：1998202741
Application date： Jan. 28, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】転写によって微細加工をするための型であって、離型性が良く、耐久性に優れた転写型を提供する。【解決手段】基板1の表面を転写すべき所望の凹凸パターンに加工し、この基板1の表面全体に酸化物膜5を形成する。そして、一端にフッ化炭素基を有し、他端に水酸基と化学反応する官能基を有する有機分子7を基板1表面全体に供給することにより、分子7の官能基と酸化膜5の水酸基とを化学反応させ、基板1の酸化膜5上に有機分子の皮膜9を形成する。この方法では、基板1の表面に一様にフッ化炭素皮膜を形成できる。フッ化炭素皮膜は、被転写材料のポリマーと付着しにくいため、離型性のよい転写型が得られる。

Claim (excerpt)：

表面に所望のパターンの凹凸が形成された基板と、前記基板表面を覆うように配置された酸化物膜と、前記酸化物膜上に配置された皮膜とを有し、前記皮膜は、前記酸化物膜と化学的に結合し、かつ、膜表面部にのみフッ化炭素を有することを特徴とする転写用型。

IPC (3)：

B29C 59/04 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (3)：

B29C 59/04 C ,  H01L 21/30 541 Z ,  H01L 21/302 J