Pat
J-GLOBAL ID:200903011138919045
画像処理装置及び方法及び記憶媒体
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西山 恵三 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999298170
Publication number (International publication number):2001119562
Application date: Oct. 20, 1999
Publication date: Apr. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】 画像の一部を加減算することにより電子透かし情報を埋め込む場合において、できるだけ人間の目に画質の劣化が目立ちにくい様に上記電子透かし情報を埋め込む。【解決手段】 マスクを構成する各係数を2値化し、ここで得られる2値情報の空間周波数領域上において周期的または擬似周期的なピークが発生する様な2次元マスクを発生する発生手段と、画像データを入力する第1入力手段と、付加情報を入力する第2入力手段と、前記2次元マスクの各係数と前記付加情報を構成する各ビット情報とを対応付ける手段と、前記対応付けの結果、及び前記画像データ上に前記2次元マスクを割り当てた際の位置関係に基づいて、前記画像データを加減算することにより、該画像データに前記各ビット情報を埋め込む電子透かし埋め込み手段とを有する。
Claim (excerpt):
マスクを構成する各係数を2値化し、ここで得られる2値情報の空間周波数領域上において周期的または擬似周期的なピークが発生する様な2次元マスクを発生する発生手段と、画像データを入力する第1入力手段と、付加情報を入力する第2入力手段と、前記2次元マスクの各係数と前記付加情報を構成する各ビット情報とを対応付ける手段と、前記対応付けの結果、及び前記画像データ上に前記2次元マスクを割り当てた際の位置関係に基づいて、前記画像データを加減算することにより、該画像データに前記各ビット情報を埋め込む電子透かし埋め込み手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
IPC (4):
H04N 1/387
, G06F 12/14 320
, G06T 1/00
, H04N 5/91
FI (4):
H04N 1/387
, G06F 12/14 320 E
, G06F 15/66 B
, H04N 5/91 P
F-Term (23):
5B017AA06
, 5B017BA00
, 5B017CA16
, 5B057BA02
, 5B057CA01
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CB01
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CE08
, 5B057CE16
, 5B057CG05
, 5B057CG07
, 5C053FA13
, 5C053GB40
, 5C053JA21
, 5C053KA04
, 5C053KA24
, 5C053LA11
, 5C053LA15
, 5C076AA14
, 5C076BA06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
-
電子透かし画像処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-080815
Applicant:株式会社日立製作所
-
画像処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-232460
Applicant:株式会社東芝
-
画像処理装置及び画像処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-313445
Applicant:キヤノン株式会社
-
電子透かし情報の埋め込み方法および抽出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-153672
Applicant:株式会社日立製作所
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Cited by examiner (4)
-
電子透かし画像処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-080815
Applicant:株式会社日立製作所
-
画像処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-232460
Applicant:株式会社東芝
-
画像処理装置及び画像処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-313445
Applicant:キヤノン株式会社
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電子透かし情報の埋め込み方法および抽出方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-153672
Applicant:株式会社日立製作所
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