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J-GLOBAL ID：200903011180951021

多電極アブレーション装置

Inventor： エドワーズ スチュアート ディー ,  ラックス ロナルド ジー ,  シャーキー ヒュー
Applicant, Patent owner： リタ メディカル システムズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 中村 稔 (外7名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996507529
Publication number (International publication number)：1998503959
Application date： Aug. 11, 1995
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】組織アブレーション装置は、先端部と基端部とを有する供給カテーテルを備える。ハンドルが供給カテーテルの基端部に取り付けられる。供給カテーテルにはの少なくとも一部には、電極展開装置が配置される。電極展開装置は、複数の後退可能な電極を備えている。それぞれの電極は、供給カテーテル内にあるときに非展開状態をとる。さらにそれぞれの電極は、供給カテーテルの先端部から前進させられたとき膨張、拡大あるいは拡張して展開状態をとる。展開電極はアブレーション容積を画定する。それぞれの展開電極は第一の曲率半径を有する第一セクションを有する。第一セクションは供給カテーテルの先端部近傍に位置している。展開電極の第二セクションートは第一セクションを超えて延び、第二の曲率半径あるいはほぼ直線状の幾何形状を有する。

Claim (excerpt)：

先端部と基端部とを有する供給カテーテルと、 該供給カテーテルの基端部に取り付けられるハンドルと、 少なくとも部分的に前記供給カテーテル内に位置し、複数の後退可能な電極を有する電極展開装置とを備え、 それぞれの電極が、前記供給カテーテル内に位置しているとき非展開状態をとり、前記供給カテーテルの先端部から前進させられたとき膨張、拡大あるいは拡張された展開状態をとり、展開電極の間にアブレーション容積を画定し、それぞれの展開電極が前記供給カテーテルを介して前進させられて所望の組織部位に位置決めされたとき少なくとも2つの曲率半径を有することを特徴とする組織アブレーション装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-121675
  
• 特開昭63-174668
  
• 特表平7-503645