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J-GLOBAL ID:200903011248264362
脱酸素処理方法及び脱酸素処理装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
内山 充
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001350525
Publication number (International publication number):2003145177
Application date: Nov. 15, 2001
Publication date: May. 20, 2003
Summary:
【要約】【課題】少量の薬剤を用いて用水中に溶存する酸素を除去し、ボイラの給水処理に好適に用いることができ、発生する蒸気中に有害物質が含まれない脱酸素処理方法及び脱酸素処理装置を提供する。【解決手段】溶存酸素を含む水を被酸化性物質の存在下に光触媒反応により脱酸素することを特徴とする脱酸素処理方法、及び、溶存酸素を含む水に被酸化性物質を添加する手段と、被酸化性物質が添加された溶存酸素を含む水を光触媒反応により脱酸素する光触媒反応槽とを備えてなることを特徴とする脱酸素処理装置。
Claim (excerpt):
溶存酸素を含む水を被酸化性物質の存在下に光触媒反応により脱酸素することを特徴とする脱酸素処理方法。
IPC (6):
C02F 1/70
, B01J 35/02
, C02F 1/20
, C02F 1/32
, C02F 1/58
, F22B 37/52
FI (6):
C02F 1/70 Z
, B01J 35/02 J
, C02F 1/20 A
, C02F 1/32
, C02F 1/58 T
, F22B 37/52 Z
F-Term (26):
4D037AA08
, 4D037AB11
, 4D037BA18
, 4D038AA05
, 4D038AA06
, 4D038AB27
, 4D038BA04
, 4D038BB07
, 4D038BB15
, 4D038BB16
, 4D050AA08
, 4D050AA09
, 4D050AB32
, 4D050BA04
, 4D050BA12
, 4D050BC06
, 4D050BC07
, 4D050BD06
, 4D050CA07
, 4G069AA02
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069CA01
, 4G069CA05
, 4G069DA06
, 4G069EA02Y
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