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J-GLOBAL ID：200903011249994810

高分子材料の酸性官能基定量方法

Inventor： 岩瀬 鋭二良
Applicant, Patent owner： 旭化成株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003063451
Publication number (International publication number)：2004271371
Application date： Mar. 10, 2003
Publication date： Sep. 30, 2004
Summary：

【課題】X線光電子分光法を用いた高分子材料の酸性官能基の定量において、検出下限が低く、反応生成物が安定であり、前処理に特殊な設備を要さず、反応が迅速に進行し、反応の選択性が高い方法を提供する。【解決手段】X線光電子分光法を用いた高分子材料の酸性官能基の定量において、該酸性官能基をRb塩型またはSr塩型に置換する前処理を施し、かつRb3dまたはSr3dを定量することによって該酸性官能基を定量する方法。【選択図】 選択図なし。

Claim (excerpt)：

X線光電子分光法を用いた高分子材料の酸性官能基の定量において、該酸性官能基をRb塩型またはSr塩型に置換する前処理を施し、かつRb3dまたはSr3dを定量することによって該酸性官能基を定量する方法。

IPC (3)：

G01N23/227 ,  G01N1/30 ,  G01N1/34

FI (3)：

G01N23/227 ,  G01N1/30 ,  G01N1/34

F-Term (24)：

2G001AA01 ,  2G001BA08 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001KA01 ,  2G001KA13 ,  2G001KA20 ,  2G001LA05 ,  2G001NA03 ,  2G001NA15 ,  2G001RA01 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G001RA05 ,  2G001RA10 ,  2G001RA20 ,  2G052AA18 ,  2G052AB11 ,  2G052AD32 ,  2G052FC09 ,  2G052FC11 ,  2G052FC16 ,  2G052FD00 ,  2G052GA19