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J-GLOBAL ID：200903011342338566

ネガ型フォトレジスト膜の現像方法

Inventor： 井上 昌章 ,  大田 利幸 ,  勇元 喜次 ,  三浦 孝夫
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992166807
Publication number (International publication number)：1993333562
Application date： Jun. 03, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】 特に厚膜のネガ型レジスト膜を効率的に現像することができる、改良された現像方法を提供する。【構成】 ネガ型フォトレジスト膜に実質的に新鮮な現像液を、多段階にまたは連続的に接触させることからなるネガ型フォトレジスト膜の現像方法。

Claim (excerpt)：

ネガ型フォトレジスト組成物を基板上に塗布して形成されたネガ型フォトレジスト膜を現像する際に、該フォトレジスト膜に実質的に新鮮な現像液を、多段階にまたは連続的に接触させることを特徴とするネガ型フォトレジスト膜の現像方法。

IPC (3)：

G03F 7/30 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭63-109442
  
• 特開昭64-037549
  
• 特開平1-223448
  
• 特開平3-184050
  
• 特開平2-063060