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J-GLOBAL ID：200903011342878269
厚膜パターンの形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994313777
Publication number (International publication number)：1996171857
Application date： Dec. 16, 1994
Publication date： Jul. 02, 1996
Summary：
【要約】【目的】パターン形成材料が塗布された透明基板表面を損傷することなく、形状が良好な厚膜パターンの形成方法を提供すること。【構成】透明基板上1に、膜厚がパターン形成材料層の膜厚以下である耐サンドブラスト性材料層2を設け、その上にパターン形成材料層3を設け、さらにその上からサンドブラスト用マスク4を介してサンドブラスト処理6を行うことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
透明基板上に耐サンドブラスト性材料層を設け、その上にパターン形成材料層を設け、さらにその上からサンドブラスト用マスクを介してサンドブラスト処理を行うことを特徴とする厚膜パターンの形成方法。
IPC (4)：
H01J 9/24
, H01J 9/02
, H01J 17/16
, H01J 31/12
