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J-GLOBAL ID：200903011357340400
有害ガスの浄化剤
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994119570
Publication number (International publication number)：1995308538
Application date： May. 09, 1994
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：
【要約】【目的】 半導体製造プロセスから排出される排ガスなどに含まれる三塩化ほう素、塩素、塩化水素、臭化水素、三ふっ化ほう素、六ふっ化タングステン、四ふっ化けい素などの有害な酸性ガスを効率よく除去しうる浄化剤を開発する。【構成】 水酸化ストロンチウムと四三酸化鉄などの酸化鉄を主成分とし、これに水などを加えた組成物を用いる。好ましくはこの組成物にバインダーなどを加えて成型して浄化剤とする。
Claim (excerpt)：
有害な酸性ガスを含むガスから、該酸性ガスを除去するための有害ガスの浄化剤であって、水酸化ストロンチウムおよび酸化鉄を主成分とする組成物が用いられてなることを特徴とする有害ガスの浄化剤。
IPC (3)：
B01D 53/40
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/68
B01D 53/34 118 Z
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 134 A
, B01D 53/34 134 C
Cited by examiner (8)
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