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J-GLOBAL ID：200903011387940585

撮像装置

Inventor：
西岡 公彦

About 西岡 公彦


Applicant, Patent owner：
オリンパス光学工業株式会社

About オリンパス光学工業株式会社


Agent (1)： 向 寛二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998300296
Publication number (International publication number)：2000081570
Application date： Oct. 08, 1998
Publication date： Mar. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 光学特性可変光学素子を有する光学系における諸収差を良好に補正する。【解決手段】 凹レンズの作用を有する光学特性可変光学素子を備えた前群と少なくとも凹面と凸面とを有する後群にて構成する。
Claim (excerpt)：
絞りと、前記絞りの近傍に配置されている凹の作用を有する光学特性可変光学素子を含む前群と、前記前群より後方に配置されている少なくとも凹面と凸面とを有する後群とよりなる光学系を備えた撮像装置。
IPC (5)：
G02B 15/00 ,  G02B 13/18 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 13/06 ,  H04N 5/225
FI (5)：
G02B 15/00 ,  G02B 13/18 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 13/06 ,  H04N 5/225 D
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 液晶電気光学装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-044773   Applicant：株式会社半導体エネルギー研究所
  • 特開平2-110428
  • 特開昭62-036632
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