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J-GLOBAL ID：200903011402465309

錫めっき浴および錫めっき方法

Inventor： 山田 克忠 ,  清水 信義 ,  乾 恒夫
Applicant, Patent owner： 東洋鋼鈑株式会社
Agent (1)： 太田 明男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995349448
Publication number (International publication number)：1997176889
Application date： Dec. 22, 1995
Publication date： Jul. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高電流密度で連続的に鋼ストリップに錫めっきを施しても、めっきやけのない優れた外観の錫めっきが得られ、かつ連続操業してもスラッジの生成を大幅抑制でき、かつ、低公害、低コストである錫めっき浴、およびこの錫めっき浴を用いた錫めっき方法を提供する。【解決手段】 硫酸10〜50g/l、2価錫イオン20〜100g/l、エトキシ化α-ナフトールスルホン酸および/またはエトキシ化α-ナフトール1〜10g/lからなる錫めっき浴に、0.1〜20g/lの2価鉄イオン、または0.1〜5g/lの錫めっき浴可溶性アミノ化合物、または0.1〜20g/lの2価鉄イオンおよび0.1〜5g/lの錫めっき浴可溶性アミノ化合物を含有させ、高電流密度めっき可能な錫めっき浴を作成する。さらに、該錫めっき浴を用い、浴温が30〜60°C、電流密度が30 A/dm2以上の条件で鋼ストリップに連続的に錫めっきする。

Claim (excerpt)：

主成分として、10〜50g/lの硫酸、20〜100g/lの2価錫イオン、0.1〜20g/lの2価鉄イオン、1〜10g/lのエトキシ化α-ナフトールスルホン酸および/またはエトキシ化α-ナフトールを含む錫めっき浴。

IPC (2)：

C25D 3/32 ,  C25D 5/26

FI (2)：

C25D 3/32 ,  C25D 5/26 B