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J-GLOBAL ID：200903011408708610

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

Inventor： 栗原 一彰 ,  関根 誠 ,  冨岡 和広
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996285537
Publication number (International publication number)：1998134995
Application date： Oct. 28, 1996
Publication date： May. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】 高密度で均一なプラズマを簡易な装置構成で生成することが可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 真空槽11の少なくとも一部を該真空槽11内に電磁波を導入してプラズマを発生させるためのアンテナ13とし、電磁波の波長をλとしたとき、電磁波によって生じるプラズマが一定領域でほぼ均一となるようアンテナ11の直径をn・λ/2(nは正の整数)近傍に設定し、さらにアンテナを一定温度に保つ温度制御機構を設けた。

Claim (excerpt)：

真空槽の少なくとも一部を該真空槽内に電磁波を導入してプラズマを発生させるためのアンテナとしたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (6)：

H05H 1/46 A ,  H05H 1/46 B ,  H05H 1/46 Z ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B