Pat
J-GLOBAL ID:200903011410075420
有機ヒ素化合物含有水の処理方法及び装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
梶 良之
, 須原 誠
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005056306
Publication number (International publication number):2006239507
Application date: Mar. 01, 2005
Publication date: Sep. 14, 2006
Summary:
【課題】 有機ヒ素化合物含有水を鉄粉を用いて効率的に処理し得る有機ヒ素化合物含有水の処理方法を提供する。 【解決手段】 有機ヒ素化合物含有水に過酸化水素と鉄粉を添加して有機ヒ素化合物を酸化分解するとともに、この酸化分解により生成した無機ヒ素を鉄粉に吸着するものである。 【効果】 酸化分解と吸着の両方の反応に安価な鉄粉を利用するため、有機ヒ素化合物の酸化分解反応、無機ヒ素の吸着反応ともに低コストで行うことができる。また、吸着反応の前にフェントン反応を行うため、有機ヒ素化合物が無機ヒ素に分解されると同時に3価ヒ素は5価ヒ素へと酸化されるため、鉄粉への効率的な吸着ができる。また、過酸化水素による鉄粉表面の酸化反応が起きるため、効率よく無機ヒ素を吸着できる。 【選択図】 なし
Claim (excerpt):
有機ヒ素化合物含有水に過酸化水素と鉄粉を添加して有機ヒ素化合物を酸化分解するとともに、この酸化分解により生成した無機ヒ素を鉄粉に吸着することを特徴とする有機ヒ素化合物含有水の処理方法。
IPC (4):
C02F 1/72
, B01J 20/02
, C02F 1/28
, B01J 23/745
FI (4):
C02F1/72 Z
, B01J20/02 A
, C02F1/28 B
, B01J23/74 301M
F-Term (43):
4D024AA10
, 4D024AB17
, 4D024BA01
, 4D024BB01
, 4D024BC04
, 4D024CA01
, 4D024CA06
, 4D024DA01
, 4D024DA03
, 4D024DB12
, 4D024DB20
, 4D024DB23
, 4D050AA02
, 4D050AB11
, 4D050AB13
, 4D050AB59
, 4D050BB09
, 4D050BC07
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4D050BD08
, 4D050CA06
, 4D050CA13
, 4D050CA20
, 4G066AA02B
, 4G066AE16B
, 4G066BA09
, 4G066CA46
, 4G066DA07
, 4G169AA02
, 4G169BA02A
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BB04B
, 4G169BC66A
, 4G169BC66B
, 4G169BD02B
, 4G169BD05B
, 4G169CA01
, 4G169CA07
, 4G169CA10
, 4G169CA11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
-
難分解性化学物質含有排水処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-102123
Applicant:オルガノ株式会社
-
鉄粉を用いた廃水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-107422
Applicant:株式会社協和エクシオ
-
地下水浄化構造及び地下水浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-227066
Applicant:大成建設株式会社
-
鉄粉を用いた土壌の浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-228431
Applicant:同和鉱業株式会社
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Cited by examiner (4)
-
特開昭61-068191
-
鉄粉を用いた廃水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-107422
Applicant:株式会社協和エクシオ
-
浄水装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-204112
Applicant:株式会社創造科学研究所
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